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多功能原位高溫熱臺是一種實驗設(shè)備，主要用于在高溫環(huán)境下進行各種實驗。這種熱臺能夠提供精確的溫度控制，并且具有多種功能，例如可以用來研究物質(zhì)在高溫下的反應、變化、合成等等。
退火爐是用于制造半導體元件的制程方法。該制程包括加熱多個半導體晶片以影響其電性能。熱處理旨在達到不同的效果。可以加熱晶片以激活摻雜劑，使沉積的膜至密化，并改變生長的膜的狀態(tài)。
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